ASML slaat AMD en IBM aan de haak voor 45 nanometer

14-12-2006 11:18 | Door Rian van Heur | Lees meer over de bedrijven: AMD, IBM, ASML, Samsung | Er zijn nog geen reacties op dit artikel | Permalink

AMD en IBM gaan de 193nm immersion scanner van ASML gebruiken voor hun 45nm-chipproces. Ook IM Flash, Nanya, Samsung en TSMC gebruiken deze scanner bij AMSL.

Tijdens de International Electron Devices Meeting in San Fransisco lieten IBM en AMD weten dat ze bij het 45nm-proces gebuik maken van immersion lithography. Bij deze techniek worden de details op de chip niet meer gemaakt in vacuüm, maar met zuiver water. Hiervan is de brekingsindex groter dan van lucht, en dit komt de optische resolutie van het proces weer ten goede. Details kunnen zo beter worden aangebracht.

Het lithografiesysteem van ASML heeft een numerieke aperture (NA) van 1,2. De NA is de openingshoek van de lens en vergelijkbaar met een cameralens. Dit is bepalend voor de resolutie: hoe hoger de NA, hoe zuiverder de doorkijk. Tot nu toe lag de NA op 0,9. In het geval van (chip) lithografie stelt een hoger NA fabrikanten in staat om meer details op de silicium wafel aan te brengen.

Eurofiber: het begint bij glasvezel

Eurofiber

Bart Oskam en Alex Goldblum, Eurofiber: ‘Het belang van hoog capacitaire verbindingen via glasvezel wordt alleen maar groter door ontwikkelingen als ‘ICT op afstand’ ook wel cloud computing.

Top 10 Reagerende members
  Aantal reacties
met 3+ sterren
Gemiddelde
waardering
Klik voor meer info1 155 6.4
Klik voor meer info2 121 6.7
Klik voor meer info3 113 6.4
Klik voor meer info4 79 6.6
Klik voor meer info5 53 6.1
Klik voor meer info6 49 6.3
Klik voor meer info7 48 6.5
Klik voor meer info8 44 6.1
Klik voor meer info9 43 6.0
Klik voor meer info10 40 6.3