AMD en IBM gaan de 193nm immersion scanner van ASML gebruiken voor hun 45nm-chipproces. Ook IM Flash, Nanya, Samsung en TSMC gebruiken deze scanner bij ASML.
Tijdens de International Electron Devices Meeting in San Fransisco lieten IBM en AMD weten dat ze bij het 45nm-proces gebuik maken van immersion lithography. Bij deze techniek worden de details op de chip niet meer gemaakt in vacuüm, maar met zuiver water. Hiervan is de brekingsindex groter dan van lucht, en dit komt de optische resolutie van het proces weer ten goede. Details kunnen zo beter worden aangebracht.
Het lithografiesysteem van ASML heeft een numerieke aperture (NA) van 1,2. De NA is de openingshoek van de lens en vergelijkbaar met een cameralens. Dit is bepalend voor de resolutie: hoe hoger de NA, hoe zuiverder de doorkijk. Tot nu toe lag de NA op 0,9. In het geval van (chip) lithografie stelt een hoger NA fabrikanten in staat om meer details op de silicium wafel aan te brengen.
