Chipspecialisten Imec en ASML ondertekenen een memorandum om halfgeleideronderzoek en duurzame innovatie in Europa te ondersteunen. ASML investeert hierbij in Imecs toekomstige porject.
Imec uit Leuven, het onderzoekscentrum in onder meer nano-elektronica, en halfgeleiderspecialist ASML kondigen aan dat ze hun samenwerking intensifiëren. Specifiek gaat het om de volgende fase van de ontwikkeling van een zogenaamd extreem ultraviolet (euv)-lithografielijn met high-numerical aperture (high-na) bij Imec.
Het project moet industrieën, die halfgeleidertechnologieën gebruiken, inzicht geven in de mogelijkheden van geavanceerde halfgeleidertechnologie. De samenwerking tussen Imec, ASML en andere partners moet ook nieuwe halfgeleidertoepassingen en de ontwikkeling van duurzame productieoplossingen voor chipfabrikanten en eindgebruikers mogelijk maken.
De intentieverklaring omvat de installatie en het onderhoud van ASML’s volledige suite van geavanceerde lithografie- en meetapparatuur in de Imec-pilotlijn in Leuven. Hoeveel de investering bedraagt, is niet bekend.
De nieuwe high-na-technologie is volgens de twee initiatiefnemers cruciaal voor de ontwikkeling van energie-efficiënte chips met hoge prestaties, zoals ai-systemen van de volgende generatie.
