Het Koreaanse Samsung gaat de gieterijcapaciteit in de nieuwe productielijn van zijn chipfabriek in Pyeongtaek uitbreiden. Op die manier wil het bedrijf voldoen aan de groeiende, wereldwijde vraag naar geavanceerde extreme ultraviolette (EUV)-oplossingen.
EUV is een lithografische technologie die gebruikmaakt van een reeks extreme ultraviolette golflengten. De bouw van de uitbreiding is deze maand begonnen en moet tegen de tweede helft van volgend jaar afgerond zijn. De nieuwe gieterijlijn, die zich zal concentreren op EUV-gebaseerde vijf-nanometer-chips. Die moeten ingezet worden in een groot aantal huidige en volgende generatie applicaties, waaronder 5G, high-performance computing (hpc) en kunstmatige intelligentie.
‘Deze nieuwe productiefaciliteit zal Samsungs productiecapaciteiten voor sub-5nm-processen uitbreiden en ons in staat stellen snel te reageren op de toenemende vraag naar EUV-gebaseerde oplossingen’, zegt een topman bij Samsung Electronics. ‘We blijven ons inzetten om in de behoeften van onze klanten te voorzien door actieve investeringen en werving van talenten. Dit zal ons in staat stellen om nieuwe wegen in te slaan en tegelijkertijd de groei van Samsungs gieterijactiviteiten te stimuleren.’
Met de toevoeging van de Pyeongtaek-fab zal Samsung in totaal zeven productielijnen voor gieterijen hebben in Zuid-Korea en de VS. Die bestaan uit zes twaalf-inch-lijnen en één acht-inch-lijn.
