Chipproducent Intel heeft zijn fabriek in Rio Rancho (Nieuw Mexico) uitgebreid om meer verschillende markten te kunnen bedienen. De productiefaciliteit, Fab 11X, is voor 2 miljard dollar uitgebreid.
De nieuwe vleugel is woensdag geopend en bevat als verbetering annex uitbreiding onder meer een productielijn die chipplakken (wafers) van 300 millimeter op 130 nanometer (0,13 micron) maakt. In de loop van volgend jaar gaat deze fabriek, als één van Intels eerste, over naar het kleinere 90 nanometer. Het bedrijf zette de plannen voor deze overstap woensdag uiteen (https://www.computable.nl/artikels/buitlan2/i4402rdm.htm).
Chipplakken met een diameter van 300 mm hebben 225 procent meer oppervlakte dan de huidige industriestandaard van 200 mm. Uit deze plakken worden de chips gesneden. Door de grotere maat kunnen er meer halfgeleiders per productierun worden gemaakt waardoor de kosten per chip dalen. Het ombouwen van fabrieken hiervoor is echter wel een dure operatie.
"Deze uitbreiding belichaamt onze overtuiging dat we moeten doorgaan met investeren in nieuwe producten en fabricageprocessen, ook in het huidige slechtere economische klimaat", aldus technisch directeur Paul Otellini.
De fabriek in Nieuw Mexico is in 1993 opgezet, toen nog Fab 11 geheten, om flash-geheugenchips en logische circuits te produceren. Dit gebeurde op 0,25 en het toen geavanceerde – maar nu standaard – 0,18 micron. De chipplakken hadden toen een maat van 200 mm. In 2002 is begonnen aan de uitbreiding, en daarmee de naamsverandering naar Fab 11X, die nu is afgerond.
Overigens had Intel voor Fab11 al een andere fabriek, Fab7, in Rio Rancho. Deze productiefaciliteit is in 1980 gebouwd en maakte flash-geheugens op 0,35 micron in plakken van 150 mm.
