MUNCHEN – Het belangrijke Jessi-project voor geavanceerde chiptechnologie ‘Manufacturing by Phase Shift’ heeft opmerkelijke resultaten opgeleverd. Het doel om in Europa foutloze maskers van het type Phase Shift (PSM) te vervaardigen is bereikt. De keuze voor de Europese halfgeleider-industrie is gevallen op de zogenaamde ‘Embedded PSM’ technologie. Het werk in het project dat eind dit jaar afloopt, concentreert zich nu op allerlei fabricage aspecten, waaronder de opbrengst en doorlooptijd.
Dit heeft de Jessi-organisatie bekend gemaakt. Elf vooraanstaande Europese high-tech ondernemingen waaronder Philips, Siemens, SGS- Thomson en het Bilthovense Asml, doen aan het project mee.
Een silicium chip heeft een complexe driedimensionaal structuur die laagje voor laagje wordt opgebouwd. Met zogenaamde optische lithografie worden tijdens het produktieproces de patronen van de lagen op de silicium plak afgebeeld. Tussen de lichtbron en de plak wordt een masker geplaatst waarop het patroon vergroot is aangebracht. In de moderne chip-technologie hebben de patronen zulke kleine afmetingen, dat de golflengte van het licht dat wordt gebruikt, een begrenzende factor vormt als de standaard maskers worden gehanteerd. Dit probleem is nu in het Jessi-project aangepakt. In het project werden de maskers onderzocht waarmee de fase van een deel van het licht wordt verschoven. Als het licht het masker passeert, ontstaan er twee lichtgolven die met elkaar interfereren. Door de faseverschuiving en de overige parameters goed te kiezen, kunnen met dezelfde apparatuur veel kleinere details betrouwbaar worden afgebeeld. Corr.
