Managed hosting door True

Microchipgeleerden ASML maken kans op uitvindersprijs

Europees Octrooibureau (EOB) nomineert Erik Loopstra en Vadim Banine

 

Vadim Banine en Erik Loopstra

Ingenieur Erik Loopstra en de Nederlands-Russische natuurkundige Vadim Banine maken kans op een jaarlijkse uitvindersprijs van het Europees Octrooibureau (EOB). Ze zijn genomineerd voor hun rol bij de ontwikkeling van microchipfabricage, meer specifiek betreft het extreme ultraviolet lithography (euvl).

Deze techniek etst met hoogenergetische lasers details op nanoschaal in ‘silicium-wafers’ voor de productie van microchips. De techniek bespaart chipmakers tijd en geld in de productie van de volgende generaties microchips, die innovaties op het gebied van consumentenelektronica, gezondheid, entertainment, zelfrijdende auto's, robotica en kunstmatige intelligentie mogelijk moeten maken.

De European Inventor Awards van het Europees Octrooibureau worden 7 juni in Parijs bekendgemaakt.

Fotolithografie

Microchips moeten volgens de wetenschappers steeds meer kunnen; om de twee jaar verdubbelt de capaciteit - gemeten in termen van de dichtheid van de transistors op één microchip. Geïntegreerde schakelingen zijn gegroeid van duizenden transistors in de jaren zeventig, naar miljarden schakelingen op hetzelfde oppervlak. Een van de belangrijkste aanjagers van deze ontwikkeling is fotolithografie, dat laserlicht gebruikt om geometrische structuren op siliciumschijven te ‘etsen’. De technische en economische grenzen van de bestaande fabricagetechniek zijn echter ongeveer bereikt. Loopstra en Banine werken al twintig jaar bij ASML, naar eigen zeggen’s werelds grootste producent van lithografiesystemen, aan de volgende generatie microchips.

De ontwikkeling van extreme ultraviolet lithography (euvl) technologie betekent volgens de onderzoekers een grote stap voorwaarts. Euvl print met hoogenergetische lasers details op nanoschaal in silicium-wafers voor de productie van microchips. De techniek van lithografie met extreem ultraviolet licht is in 2017 op de markt gekomen. In productielijnen zal dit euv-lithografiesysteem worden gebruikt voor de meest gedetailleerde en nauwkeurige lagen van een chip.

Profielen

Erik Loopstra is al meer dan vijfentwintig jaar systeemengineer bij ASML en studeerde werktuigbouwkunde aan de Technische Universiteit Delft. Momenteel werkt Loopstra aan de volgende generatie optische systemen voor EUVL bij ASML-leverancier Zeiss in Duitsland.

Natuurkundige Vadim Banine deed twee jaar postdoctoraal onderzoek aan de Technische Universiteit Eindhoven (TU/e), waar hij ook promoveerde. In 1996 ging hij bij ASML werken. Sindsdien past hij zijn wetenschappelijke inzichten toe op het realiseren van technologische doorbraken in euvl.

Patenthouder ASML is een wereldwijde producent van lithografiesystemen met een geschat marktaandeel van 85 procent over het afgelopen jaar in termen van inkomsten. In 2017 bood het bedrijf werkgelegenheid aan zo'n 19.200 mensen wereldwijd, waarvan er alleen al meer dan vierduizend werkten aan de euvl-technologie.

Extreme ultraviolet lithography

rik Loopstra and Vadim Banine - Extreme ultraviolet lithography

Dit artikel is afkomstig van Computable.nl (https://www.computable.nl/artikel/6344519). © Jaarbeurs IT Media.

?


Sponsored


Lees ook


 

Jouw reactie


Je bent niet ingelogd. Je kunt als gast reageren, maar dan wordt je reactie pas zichtbaar na goedkeuring door de redactie. Om je reactie direct geplaatst te krijgen, moet je eerst rechtsboven inloggen of je registreren

Je naam ontbreekt
Je e-mailadres ontbreekt
Je reactie ontbreekt

Stuur door

Stuur dit artikel door

Je naam ontbreekt
Je e-mailadres ontbreekt
De naam van de ontvanger ontbreekt
Het e-mailadres van de ontvanger ontbreekt

×
×
Wilt u dagelijks op de hoogte worden gehouden van het laatste ict-nieuws, achtergronden en opinie?
Abonneer uzelf op onze gratis nieuwsbrief.