Onderzoekers van het FOM-Instituut voor Plasmafysica ‘Rijnhuizen’ in Nieuwegein hebben een polijsttechniek ontwikkeld voor de productie van röntgenspiegels.
Deze spiegels kunnen worden gebruikt in de fabricage van nog kleinere chips. In de chips die op het ogenblik worden gebruikt, zijn de kleinste structuren ongeveer 250 nanometer: 250 miljoenste milimeter. De toekomstige chips kunnen met de nieuwe techniek structuren hebben van honderd nanometer en kleiner.
De spiegels bestaan uit tachtig laagjes van afwisselend 2.5 nanometer dikke molybdeen en 4.5 nm silicium. Met de spiegels kan de belichtingstijd in het lithografieproces van de chipfabricage met de helft worden verminderd. Het realiseren van microlithografie met extreem ultravioletlicht is hiermee een stapje dichterbij gekomen.
