Chipmachinefabrikant Asml heeft zijn eerste 120nm lithografie-systemen verscheept. Bedoeld om dram’s en sram’s te maken.
De zogeheten PAS 5500/800 KrF Step & Scan-systemen zijn voorzien van de hoogste numerieke lensopening (0.80). De systemen, die een resolutie kunnen bieden voor 120nm, worden ingezet voor de grootschalige productie van 256 MB dram’s, evenals voor Flash en snelle sram’s. De systemen kunnen 115 200-millimeter wafers per uur produceren en worden geleverd aan een aantal grote producenten van dram’s.
De PAS 5500/800 biedt fabrikanten van onder meer dram’s de mogelijkheid gebruik te maken van de hoogwaardige KrF-technologie voor de nieuwe generatie geheugenchips, aldus Asml.
