ASML heeft een manier gevonden om met een EUV-machine chips in grotere volumes te produceren dan tot nog toe mogelijk was. Onderzoekers van de chipmachinefabrikant hebben ontdekt hoe ze de lichtbron in hun meest geavanceerde chipmachine veel krachtiger kunnen maken. Ze slaagden erin het vermogen van de EUV-lichtbron te verhogen van de huidige 600 watt naar 1000 watt.
Zo meldt persbureau Reuters dat hierover ingenieurs bij de ASML-vestiging in San Diego sprak. Daardoor kunnen tegen het einde van dit decennium tot 50 procent meer chips geproduceerd worden. Het gaat om machines voor extreem ultraviolette lithografie (EUV), die de modernste chips kunnen maken. De technische doorbraak helpt ASML om voor te blijven op nieuwe, zwaar gesubsidieerde concurrenten uit de VS en China.
Michael Purvis, hoofdtechnoloog van ASML in Californië, zei tegen Reuters: ‘Het is geen trucje of iets dergelijks, waarbij we heel even laten zien dat het werkt.’ Volgens hem is het een systeem dat 1000 watt kan produceren onder dezelfde omstandigheden als bij een klant.
Extreem krachtig EUV-licht
De doorbraak van ASML betreft het moeilijkste onderdeel van de machine: het maken van extreem krachtig EUV-licht. Dat gebeurt door gesmolten tindruppels met een laser te verhitten tot plasma, dat EUV licht uitzendt. Door het aantal druppels te verdubbelen en twee laserpulsen te gebruiken in plaats van één, is het vermogen flink gestegen.
ASML verwacht dat machines rond 2030 ongeveer 330 wafers per uur kunnen verwerken, tegenover 220 nu. Wetenschappers noemen het bereiken van 1000 watt verbazingwekkend. ASML denkt zelfs dat 1500 tot 2000 watt in de toekomst haalbaar is.
