Aartsrivalen Intel, AMD en Motorola hebben een monsterverbond gesloten om vaart te zetten achter de ontwikkeling van chipproductiemethodes met extreem ultraviolet licht.
De belangrijkste drie fabrikanten van microprocessoren voor bureaucomputers gaan de komende drie jaar 250 miljoen dollar steken in onderzoek bij de Amerikaanse defensielaboratoria. Lawrence Livermore National Laboratory, Sandia National Laboratories en Lawrence Berkeley National Laboratory zullen technieken ontwikkelen voor de productie van chips met dimensies kleiner dan 0,1 micron, duizend keer dunner dan een mensenhaar. De eerste 0,25 micron-productielijnen staan op het punt om opgestart te worden. Volgens het huidige optimistische toekomstscenario van de Amerikaanse Semiconductor Industry Association (SIA) komen chips met 0,1 micron-details in 2006 in productie.
Lenzen
Het onderzoek richt zich op lithografische systemen die met behulp van extreem ultraviolet (EUV) licht de microscopische structuren op het silicium afbeelden. EUV is een andere benaming voor zachte röntgenstralen. Met glazen lenzen zijn deze stralen niet meer op chips te projecteren. Het moet met spiegels, een techniek die men in de drie laboratoria al langer onderzoekt. In 2007 moeten fabrieken met EUV-apparatuur de eerste chips met miljarden transistoren kunnen aanmaken.
Het schatrijke Intel is de grote gangmaker achter het consortium dat de naam Extreme Ultraviolet Limited Liability Company (EUV LLC) draagt. Voor de onderneming zijn steeds snellere chips van levensbelang. Het hele business-model van het bedrijf waaraan Andy Grove leiding geeft, is gebaseerd op de trend die al in 1965 door zijn collega Gordon Moore werd uitgestippeld. De grootmacht uit Santa Clara besteedt dit jaar 2,8 miljard dollar aan onderzoek op het gebied van chipproductie en -ontwerp. ’s Werelds grootste chipfabrikant werpt dan ook niet meer dan een kluif richting de noodlijdende defensielaboratoria.
Politiek
De reden achter het huidige initiatief is vooral van politieke aard. Intel heeft er alle belang bij om invloed te kunnen uitoefenen op de toekomstige ontwikkeling van productieapparatuur. De huidige optische lithografie zal op een gegeven moment ten einde lopen. De halfgeleiderindustrie staat voor de moeilijke keuze een opvolger voor deze succesvolle techniek te kiezen. De Amerikaanse chipfabrikanten, die zich hebben vertegenwoordigd in Sematech (Semiconductor Manufacturing Technology), komen in november bij elkaar om de neuzen gelijk te richten. Door de investeringen in één van de EUV-technologieën, harde röntgenstralen, elektronenbundels of ionenbundels te concentreren wil Sematech de ontwikkeling vaart geven. Intel staat al langer bekend als groot voorstander van EUV. n
ASM Nederland
Het woord ‘optische lithografie’ komt opvallend genoeg niet meer voor in de Noord-Amerikaanse vocabulaire. Alle belangrijke spelers op dit gebied – Canon, Nikon en het Nederlandse bedrijf ASM Lithography – komen niet uit de VS. Dit drietal is echter van mening dat optische lithografie zelfs tot na 0,1 micron op te rekken is. Als de Amerikaanse chipindustrie massaal inzet op één nieuwe chipproductietechnologie, dan zouden de Verenigde Staten de buitenlandse spelers buiten spel kunnen zetten. Op deze manier worden de Amerikanen weer heer en meester over alle belangrijke schakels van de halfgeleiderindustrie.
