Een consortium bestaande uit Intel, IBM, Motorola en drie Amerikaanse laboratoria, onthult vandaag een prototype van een nieuwe chipmachine.
De machine kan een revolutie teweeg brengen op het terrein van de halfgeleiderproductie.
Dit meldtThe Wall Street Journal. Volgens de Amerikaanse zakenkrant maakt de nieuwe machine, waar tot dusverre door de deelnemende partijen 250 miljoen dollar in is geïnvesteerd, gebruik van zogehetenextreme ultraviolette lithografie (EUV). Deze technologie kan ultradunne circuitlijnen op dewafers trekken. Volgens de initiatiefnemers is het daardoor mogelijk chipcircuits te bakken die 7 tot 20 procent kleiner zijn dan de huidige, conventionele chips.
De komst van de nieuwe revolutionaire chips zou en nieuwe doorbraak betekenen, aangezien onderzoekers langzaam maar zeker door hun opties heen raken om met behulp van de bestaande technologie nog snellere chips te maken. Daarmee zou de zogeheten Wet van Moore in gevaar komen, die ervan uitgaat dat de kracht van transistoren gemiddeld elke achttien maanden wordt verdubbeld.
