Intel heeft de ontwikkeling van zijn volgende generatie chipprocedé afgerond, waarmee het mogelijk is om chips te produceren met componenten die slechts 32 nanometer groot zijn (een nanometer is één-miljardste meter). Het bedrijf is hiermee klaar om vanaf het vierde kwartaal van 2009 te beginnen met het produceren van de volgende generatie computerchips, die nog energiezuiniger en krachtiger zullen zijn.
Met het nieuwe chipprocedé blijft Intel trouw aan zijn ambitieuze ‘ tick-tock ‘ strategie, waarbij de introductie van nieuwe productieprocessen en nieuwe micro-architecturen elkaar met de regelmaat van de klok afwisselen – gemiddeld om de twaalf maanden. Als Intel volgend jaar start met de productie van 32nm chips, betekent dit dat Intel erin is geslaagd om dit doel voor het vierde achtereenvolgende jaar te realiseren.
Het betreft een procedé die gebruikmaakt van de tweede generatie ‘ high-k + metal gate’ -technologie, 193nm lithografie voor het creëren van de verschillende lagen in een chip, en verbeterde transistortechnieken. Dit alles zorgt ervoor dat de prestaties en energiezuinigheid van Intel-chips verder worden verbeterd. Intels nieuwe chipprocedé biedt de hoogste transistorprestaties en de hoogste transistordichtheid van iedere 32nm technologie die momenteel bekend is.
"Mede dankzij onze productiekracht en de daaruit resulterende producten hebben we onze voorsprong op het gebied van computerprestaties en batterijlevensduur voor op Intel gebaseerde laptops, servers en desktops verder vergroot", zegt Mark Bohr, Senior Fellow en director of process architecture and integration bij Intel. "We hebben dit jaar laten zien dat we dankzij onze productiestrategie ook in staat zijn geweest om totaal nieuwe productlijnen te creëren, voor Mobile Internet Devices (MIDs), consumentenelektronica, ingebedde computers en netbooks ."
