Managed hosting door True

Asml levert eerste 120nm lithosystemen

 

Chipmachinefabrikant Asml heeft zijn eerste 120nm lithografie-systemen verscheept. Bedoeld om dram's en sram's te maken.

De zogeheten PAS 5500/800 KrF Step & Scan-systemen zijn voorzien van de hoogste numerieke lensopening (0.80). De systemen, die een resolutie kunnen bieden voor 120nm, worden ingezet voor de grootschalige productie van 256 MB dram's, evenals voor Flash en snelle sram's. De systemen kunnen 115 200-millimeter wafers per uur produceren en worden geleverd aan een aantal grote producenten van dram's.
De PAS 5500/800 biedt fabrikanten van onder meer dram's de mogelijkheid gebruik te maken van de hoogwaardige KrF-technologie voor de nieuwe generatie geheugenchips, aldus Asml.

Dit artikel is afkomstig van Computable.nl (https://www.computable.nl/artikel/143484). © Jaarbeurs IT Media.

?


Sponsored

 

Stuur door

Stuur dit artikel door

Je naam ontbreekt
Je e-mailadres ontbreekt
De naam van de ontvanger ontbreekt
Het e-mailadres van de ontvanger ontbreekt

×
×
Wilt u dagelijks op de hoogte worden gehouden van het laatste ict-nieuws, achtergronden en opinie?
Abonneer uzelf op onze gratis nieuwsbrief.