HAARLEM – TNO en de Carl Zeiss Stiftung hebben een vijfjarig contract ondertekend voor gezamenlijk onderzoek voor de nieuwe generatie lithografeermachines van ASM Lithography.
Beide bedrijven zijn al strategisch partner van Asml. Het onderzoek van TNO en Carl Zeiss richt zich op systeemontwerp en het optisch/mechanisch ontwerp van de nieuwe generatie machines. Tevens zal onderzoek worden gedaan naar het voorkomen van vervuiling van de optische componenten in lithografeermachines.
Lithografeermachines worden gebruikt voor de vervaardiging van chips. Met behulp van optische lithografie worden complexe en zeer fijne patronen op siliciumplakken aangebracht, waarvan vervolgens chips worden gemaakt. De eisen die aan dit soort machines worden gesteld, zoals snelheid, nauwkeurigheid en kwaliteit, bepalen voor een groot gedeelte de vooruitgang in deze high-tech markt.
Asml in Bilthoven is een van ’s wereldse belangrijkste fabrikanten van dit soort machines.
Sjaak Smakman
